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    年度93
    論文名稱Corrosion Action between Cu and Ta/TaN Barrier during CMP
    會議名稱The Electrochemical Society 206th Meeting, Hawaii, HI, USA
    會議開始時間2004-10-07
    全部作者Tsai, Shau-wei; Yeh, Ho-ming
    備註會議論文
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