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    年度96
    等級其他
    論文名稱Preparation of a nanosilica-modified negative-type acrylate photoresist
    全部作者Lin, Dar-jong; Don, Trong-ming; Chen, Chin-chung; Lin, Bing-yi; Lee, Chih-kang; Cheng, Liao-ping
    卷數Journal of Applied Polymer Science 107(2), pp.1179-1188
    ISSN(ISBN)0021-8995;0021-8995
    使用語言英文
    備註期刊論文

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