年度96
等級其他
論文名稱Preparation of a nanosilica-modified negative-type acrylate photoresist
全部作者Lin, Dar-jong; Don, Trong-ming; Chen, Chin-chung; Lin, Bing-yi; Lee, Chih-kang; Cheng, Liao-ping
卷數Journal of Applied Polymer Science 107(2), pp.1179-1188
ISSN(ISBN)0021-8995;0021-8995
使用語言英文
備註期刊論文